Fotoresist globali e Photoresist Gruppi ausiliari di mercato dovrebbe raggiungere US $ 4.60 miliardi nel 2020 MOHIT JOSHI

Fotoresist sono materiali sensibili alla luce che sono principalmente usati infabrication e il confezionamento di semiconduttori, circuiti integrati, display a schermo piatto e circuiti stampati. Fotoresist giocano animportant ruolo nella fotolitografia e foto-patterning process.Photoresists costituito da resina o polimero, solventi andphoto-sensibilizzante. Questi sono suddivisi in positivo e negativephotoresists sulla base di opzione in via di sviluppo. Fotoresist vengono applicati onthe superficie di un wafer e in seguito esposti alla luce di pre-determinedwavelength. Ausiliari photoresist stanno sostenendo materiali che areUsed per migliorare l'efficienza e la risoluzione del photolithographyprocess. Questi sono utilizzati fin dall'inizio del processo di tale promozione asadhesion di fotoresist a substrato di wafer per todevelop fotoresist rimuovere fotoresist eccessivi dopo thedeveloper trattamento.

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Crescita l'industria dei semiconduttori e delle tendenze displaytechnology schermo piatto dinamiche dovrebbero essere i principali fattori trainanti forgrowth dei fotoresist e ausiliari photoresist market.However, rischi per la salute ambientale e occupazionale associatedwith fotoresist e ausiliari fotoresistente componente è expectedto ostacolano la crescita del mercato. I prossimi sistemi nanoelettromeccanici (NEMS) sono previsti per fornire opportunità per i giocatori in themarket.

Questo rapporto fornisce un'analisi dettagliata e previsioni di thephotoresists e ausiliari fotoresistente di mercato a livello globale andregional dal 2014 al 2020. A livello globale, il mercato segmentato hasbeen basa sulle entrate (US $ Mn) da 2014 al 2020. In orderto fornire conoscenza approfondita del mercato al regionallevel, la domanda è stato previsto in termini di fatturato (US $ Mn) from2014 al 2020. Il rapporto include i driver e limitazioni, e theirimpact sulla crescita del mercato durante il periodo di previsione. Thestudy comprende anche opportunità di crescita di mercato al globallevel.

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The relazione contiene un'analisi approfondita della catena del valore in orderto fornire conoscenza dettagliata del mercato. Si compone di cinque forze modello del aPorter, che fornisce una panoramica theintensity della concorrenza nel mercato. Inoltre, l'analisi di attrattività del mercato studyincludes, dove i vari utenti finali arebenchmarked basano sulla dimensione del mercato, il tasso di crescita e generalattractiveness. Il mercato è stato segmentato in base a productsegments e applicazioni. Segmenti di prodotto di fotoresist marketinclude g-line e linea i-line, KrF, ArF immersione asciutto e ArF. Globalphotoresists mercato ausiliari è stato segmentato come antireflectivecoatings, fotoresist sviluppatore, bordo tallone di rimozione e altri. Eachsegment è stato analizzato e previsione basata sulle entrate (milioni di dollari) dal 2014 al 2020. Inoltre, i segmenti sono state analizzate andforecast in base alle tendenze attuali del globale e regionale levelduring il periodo di riferimento. A livello regionale, il mercato ha beensegmented in Nord America, Europa, Asia Pacifico e Resto del theWorld (RdM). Mercato è stato analizzato in base alla domanda e forecasttrends sono in base alle tendenze attuali per il periodo di sei anni.

Fonti di ricerca secondarie che sono stati in genere di cui includere, ma non sono stati limitati a siti web aziendali, relazioni annuali , financialreports, report dei broker, presentazioni per gli investitori e fonti SEC filings.Other quali database interni ed esterni di proprietà, relativo brevetto e database normativi, governmentdocuments nazionali, basi di dati statistici e le relazioni di mercato, articoli di notizie, comunicati stampa, e webcast specifiche alle aziende operanti in themarket sono stati anche denominato per il report.

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We condotto interviste primarie con operatori del settore andcommentators al fine di validare i dati e analisi. Un colloquio typicalresearch funzioni soddisfatto come la fornitura di prima handinformation delle dimensioni del mercato, le tendenze del mercato, trend di crescita, competitivelandscape e prospettive. Ciò ha contribuito a convalidare e strengtheningthe risultati della ricerca secondari. La ricerca primaria ulteriormente l'esperienza e comprensione del mercato developedthe del team di analisi.

Profili di aziende leader sono stati forniti nel rapporto alongwith analisi dettagliata della loro quota di mercato. I featuresprofiles studio delle aziende come JSR Corporation, il Dow ChemicalCompany, Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd., Avantor prestazioni MaterialsInc., Merck KGaA, FUJIFILM Electronic Materials Co. Ltd., EI DuPont de Nemours and Company, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., SumitomoChemical Co., Ltd. e LG Chem Ltd.

Thisreport segmenti i fotoresist globali e fotoresist ancillariesmarket come segue:

PhotoresistsMarket - Analisi segmento di prodotto

g-line e linea i-line

KrF

asciutto ArF

immersione ArF

PhotoresistAncillaries mercato - segmento di prodotto Analisi

rivestimenti antiriflesso

sviluppatori di resina fotosensibile

togliere tallone bordo

Altri (compresi i primer o promotori di adesione e solventi speciali)

Photoresistsand Photoresist Gruppi ausiliari di mercato - l'analisi delle applicazioni

Semiconduttori e circuiti integrati (IC)

circuiti stampati (PCB )

altri (compresi MEMS, NEMS, sensori ecc)

Photoresistsand Photoresist Gruppi ausiliari di mercato - Analisi Regionale

America del Nord

Europa

Asia Pacifico

Resto del mondo (RdM)

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